2.9. Диоды Ганна
В отличие от вышерассмотренных диодов, диод Ганна – это полупроводниковый прибор без p-n-перехода, обладающий отрицательным сопротивлением. В 1963г. Ганном было замечено, что при приложении к кристаллу арсенида галлия постоянного электрического напряжения, когда напряжённость поля порядка 1000 В/см, происходило периодическое изменение величины тока, протекающего через кристалл. изменение амплитуды тока доходило до долей ампера. явление это наблюдалось и в других полупроводниках, имеющих в зоне проводимости два энергетических минимума (двхдолинные полупроводники). к ним относятся GaAs, InSb, ZnSe, CdTe.
Основным материалом для создания диодов Ганна является в настоящее время арсенид галлия n-типа, энергетическая диаграмма которого представлена на рис.2.24. В зоне проводимости имеется два минимума, эффективные массы электронов, в которых существенно различаются. Электроны, занимающие уровни, расположенные в центральном минимуме, называют легкими (m*1=0,072m0, m0— масса свободного электрона), а в боковом минимуме — тяжелыми (m*2=1,2m0). так как подвижность обратно пропорциональна m*, то легкие электроны имеют высокую подвижность:µ1=(5—8)103 см2/В.с, а тяжелые — низкую: µ2=100см2/В.с.
Рис. 2.24. структура энергетических зон арсенида галлия n-типа
При малых напряженностях электрического поля в полупроводнике все электроны находятся в нижнем центральном минимуме и плотность тока через полупроводник j1=qnµ1E. С ростом напряженности электрического поля, как только у части электронов появится энергия больше dЕС, они смогут перейти в боковой минимум с малой подвижностью. Напряженность поля Епор, при которой начинается такой переход, называется пороговой. При достижении напряженности электрического поля Е0 все электроны перейдут в боковой минимум и плотность тока J2=qnµ2E0. Если при напряженностях этих полей выполняется неравенство µ1Enop> µ2E0, то соответственно J1>J2 и с ростом Е от Eпор До Е0 произойДет уменьшение тока через полупроводник. это означает, что на вольт-амперной характеристике появляется участок с отрицательной дифференциальной проводимостью, т. е. характеристика относится к N-типу.
Плотность тока через полупроводник можно в общем виде записать как
j=q(µ1n1 + µ2n2)E,
где n2 — концентрация тяжелых электроноВ, n1 — концентрация легких электронов, а n0=n1+n2— их сумма, т. е. концентрация свободных электронов в полупроводнике. Условием возникновения отрицательной проводимости является dj/dE<0.
Неустойчивость тока. Наличие участка отрицательного сопротивления на вольт-амперной характеристике полупроводника при определенных условиях приводит к неустойчивости протекания тока через полупроводник. Так как средняя дрейфовая скорость движения электронов
в полупроводнике v = µE, то зависимость v =v(E) имеет вид, аналогичный зависимости j(E) (рис. 2.25). Пусть к диоду ганна приложено внешнее напряжение vпop = EпорL (рис. 2.26).
Предположим, что на расстоянии х от катода возникла флуктуация концентрации носителей шириной dх, в которой концентрация меньше средней по образцу(заметим, что из-за неравномерного распределения примесей и наличия других структурных дефектов, концентрация свободных носителей в отдельных участках кристалла может быть больше или меньше средней по образцу). удельное сопротивление этой части полупроводника выше среднего, поэтому напряженность электрического поля в слое dх больше среднего значения Eпор. В соответствии с зависимостью
v(E) (рис. 2.25) скорость электронов в этом слое уменьшается и его сопротивление дополнительно увеличивается. происходит перераспределение напряжения между частями полупроводника: падение напряжения на слое dх, а следовательно, и напряженность электрического поля в нем, Ех, увеличивается, а в остальной части образца, вне домена, Ев, уменьшается.
Рис.2.25.Зависимость плотности тока от напряженности электрического поля
|
Рис. 2.26. Схема диода Ганна
|
Скорость электронов в слое dх уменьшается еще больше, однако скорость электронов в остальной части полупроводника также может уменьшаться вследствие уменьшения Ев. обозначив dvx уменьшение скорости электронов в слое dх, а dvв в остальной части диода, можно записать
dvX / dvВ = (ех-eпор)µ2 / (Eпор -ЕВ) µ1.
очеВиДно, Vпор=EпорL=EXdX+Eb (L-dX),
откуда нетрудно получить
(Ех-Епор) / (ЕПор-EВ) = (L-dX) / dX.
Тогда dvX/dvВ =[(L—dх)/ dх](µ2/µ1).
Для достаточно малого dх; dvx/dvв >1, а это означает, что электроны внутри области dх замедляются сильнее, чем вне нее. следовательно, скорость электронов в слое dх меньше, чем вне него. по этой причине со стороны катода к слою dх будут притекать электроны, а со стороны анода оттекать, создавая на границах слоя dх пространственные заряды противоположного знака (рис.2.26), вследствие чего электрическое поле в слое dх еще больше увеличится. Слой с повышенной напряженностью электрического поля dх обычно называют доменом (от английского domain — область). Напряженность электрического поля в домене увеличивается до тех пор, пока не достигнет значения, при котором дифференциальная подвижность электронов станет положительной. После этого скорости электронов в домене и вне него сравняются, накопление зарядов прекратится, и сформировавшийся домен будет дрейфовать к аноду с постоянной скоростью.
рис.2.27. распреДеление концентрации электроноВ и напряженности электрическоГо поля В Домене
|
Распределение концентрации электронов и электрического поля в домене показано на рис.2.27.
Домен состоит из слоя, обогащенного электронами (отрицательный заряд), и слоя, обедненного электронами (положительный заряд). Если пренебречь диффузией, то плотность электронов в обогащенном слое может быть сколь угодно большой. Положительный же заряд образуется ионизированными донорами при уходе электронов из этой части полупроводника, поэтому его плотность не может быть больше n0. Следовательно, ширина обогащенной области меньше ширины обедненной области и за размеры домена можно принять размеры области положительного заряда ширина области объемного заряда d может быть определена из уравнения Пуассона, которое при линейной зависимости Е(х) (рис.2.27,б)
запишем в виде dе/dх=-r/ .
поскольку dЕ=-(Еx-ЕВ), dx=d,
r =qn0, то d = ( /qn0) (Ех—Ев).
рис.2.29. колебания тока, протекающеГо через ДиоД Ганна |
рис. 2.28. изменение формы Домена с ростом ВнешнеГо напряжения |
При увеличении внешнего напряжения V выше Vпор избыток напряжения падает на домене, и он растет в высоту Ех и в ширину d. При определенном напряжении Vнaс плотность положительного заряда в обедненной области домена достигает значения n0, происходит насыщение электрического поля в домене Ех и при дальнейшем увеличении напряжения на диоде ширина домена растет (рис.2.28). Во всех случаях при изменении внешнего напряжения изменяется лишь электрическое поле в домене и его ширина. напряженность электрического поля вне домена, а соответственно и скорость его дрейфа практически не изменяется. Изменение тока через диод показано на рис.2.29. вследствие того, что вблизи катода обычно имеется высокоомный приконтактный слой, домен образуется у катода за время, равное времени релаксации t= r. после образования домена плотность тока через диод уменьшается, а напряженность электрического поля в полупроводнике становится меньше Eпор, вследствие чего второй домен образоваться не может. В течение времени t=l\v0 домен дрейфует через объем полупроводника и ток через диод не изменяется. При достижении анода домен исчезает, плотность тока снова увеличивается до jпор, а напряженность электрического поля Ев до значения Епор. У катода образуется новый домен и цикл повторяется. Таким образом, диод Ганна может быть использован в качестве генератора.Для того чтобы домен мог сформироваться, необходимо, чтобы время пролета домена от катода к аноду было больше времени его образования, т. е. t=L/v >eeo/qn0µ2= ?. отсюда условие возникновения колебаний тока может быть записано в виде
n0l>eeo v0/qµ2=A. (*)
Для арсенида галлия максимальная скорость электронов v=107 см/с и значение A=(1... 2) • 1011 см-2.
Частота генерации диода ганна зависит только от длины образца: f=l/T=v0/L, так как скорость движения домена от внешнего напряжения и элементов схемы почти не меняется. С уменьшением
L частота растет, например при L =100мкмf= 1 ГГц, а при L =10 мкм f =l0 ГГц. Минимально возможное значение L, определяющее максимальную частоту генерации, определяется условием (*).
Перестройку частоты генерации изменением внешнего напряжения можно осуществлять в конструкции диода ганна с переменным сечением (рис.2.30). Напряженность электрического поля в таком образце растет от катода к аноду. При напряжении V1 напряженность электрического поля достигает значения Епор в части образца х>х1. Проходимый доменом путь равен L-х1 а частота генерации f1=v0/(L—x1). При V2>V1 значение Eпор достигается в точке x2, путь домена увеличивается и частота генерации уменьшается:
f2=v0/(L—x2)
Если в диоде ганна выполняется условие (*), то при его включении сразу возникают колебания тока и экспериментально наблюдать участок отрицательного сопротивления на вольт-амперной характеристике (рис.2.25) невозможно.
Рис.2.30. конструкция диода ганна с переменным сечением и распределение напряженности электрического поля в нем
Рассмотренная неустойчивость протекания тока в диоде Ганна называется доменной. Образование доменов характерно для полупроводниковых приборов с вольт-амперной характеристикой N-типа. Согласно условию (*) колебания тока не возникают, если n0L<А. в этом случае диод ганна ведет себя как обычный прибор с отрицательным сопротивлением. Такие диоды могут использоваться для усиления сверхвысокочастотных сигналов.
Режим ограничения накопления объемного заряда (ОНОЗ). Рассмотрим работу диода Ганна, к которому приложено постоянное смещение V1=E1L= (2 ... 3)EnopL и переменное смещение такой величины, что в течение части периода напряженность электрического поля в диоде меньше Eпор (рис. 2.31).
В течение той части периода, когда E>Enop, у катода формируется домен. Если период колебаний достаточно мал, то домен, не успев сформироваться, начнет рассасываться во время той части периода, когда E<Enop. При образовании домена ток уменьшается, при рассасывании— увеличивается. Таким образом, существуют колебания тока, период которых определяется не временем пролета домена через диод, а внешним резонатором. Такой режим работы диода Ганна называется режимом ограниченного накопления объемного заряда (оноз), в отличие от ранее рассмотренного режима, который называют пролетным. Для осуществления режима оноз необходимо выполнение следующих условий:
1. период колебаний должен быть в 2... 3 раза меньше времени релаксации q2, чтобы домен не успел до конца сформироваться за время, пока Е>Епор (µ1=µ2), т. е. T=1/f< (2-3)q2<(2-3) eeo /qµ2n0
2. за время, пока Е<Епор (µ=µ1), домен должен успеть исчезнуть, что
обеспечивается при T>>q1= eeo /qµ1n0. Таким образом, диод Ганна может работать в режиме оноз лишь в интервале частот
eeo /qµ1<<n0/f<(2-3)eeo /qµ2
рис.2.31. работа диода ганна в режиме оноз
Преимуществом режима оноз является независимость рабочей частоты от длины диода. Это, во-первых, позволяет изменять частоту простой перестройкой внешнего резонатора и, во-вторых, брать диоды большей длины, к которым можно подводить большие напряжения от источника питания и соответственно получать большие мощности переменного сигнала. Кроме этого, режим оноз позволяет работать на более высоких частотах, чем пролетный режим.
В настоящее время диоды Ганна нашли широкое применение для генерации свч сигналов в диапазоне частот 1 - 90 ГГц. На частотах порядка единиц гигагерц могут быть получены величины генерируемых мощностей до 1 кВт, а на частотах около 90 ГГц До 0,5 Вт.